我想要知道一下真空镀膜工业的原理还有机器操作的方法 好想好想学这个。求帮帮忙 最好真人解答 不要复 怎么样才能学到真空镀膜技术，而不是单纯的操作？
1、
2、 主轰：P=6.0*10-2 Pa，U＝300V，I＝100A
7个源（每2个轮换30S），Ar＝160
t＝1.5min
3、镀CrN：P=（6.0～8.0）*10-2 Pa，U＝30~40V，I＝100A
7个源，Ar＝160，N2＝15
t＝3min
真空镀膜机的操作方法~
真空离子镀膜法
粗抽 精抽 升温 贮入AR CH4 H2 N2 间冷 开炉
产品 TIN TICN TIC
镀膜方法有很多种的，电镀法、溶胶法、溅射、电子束蒸发、热蒸发、PECVD、MOCVD、ECRCVD等等
镀膜颜色，主要靠蒸镀经验，想知道为什么会呈现不同颜色，那你就得看些镀膜原理类的书籍。真空知识也好办，专门讲真空的书很多，多看些，然后自己多注意对照实际，学起来很容易。
PVD真空镀膜原理是什么?
答：PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。离子镀膜(PVD镀膜)技术，其原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，使被蒸发物质...
镀膜机的工作原理及结构
答：镀膜机的工作原理及结构如下：1、镀膜机的工作原理是通过真空溅射的方式在光学元件上涂镀薄膜，以此改变元件对入射光线的反射率和透过率。2、镀膜机的结构主要由真空系统、蒸镀系统、冷却系统和电气系统组成。其中真空系统由真空罐和排气系统组成。真空罐是镀膜机的主体，镀膜过程就是在真空罐中完成的，通过...
PVD真空镀膜原理是什么?
答：其工作原理就是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上。它具有沉积速度快和表面清洁的特点，特别具有膜层附着力强、绕性好、可镀材料广泛等优点。 采用全球先进的磁控溅射离子镀膜和多弧离子镀膜工艺设备，及...
PVD涂层技术真空镀膜流程原理及特点
答：揭秘PVD涂层技术：真空镀膜工艺的奥秘与魅力 物理气相沉积（Physical Vapor Deposition, PVD），如同魔术师手中的魔法，是工业制造领域的一项关键技术，它通过物理手段在表面披上一层薄而坚硬的镀层。PVD的工艺流程犹如一首精密的交响曲：PVD前的准备工作: 清洗工件，确保表面洁净，然后送入真空炉中，开始抽...
真空镀膜机的原理
答：说来话长，简单点的话就是：阴极被激发的电子在电场作用下加速飞向衬底基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和二次电子，二次电子飞向衬底基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在衬底上形成薄膜。二次电子在加速飞向衬底的过程中受到...
真空镀膜设备原理
答：使单个电子轨迹呈三维螺旋状，而不是仅仅在靶面圆周运动。至于靶面圆周型的溅射轮廓，那是靶源磁场磁力线呈圆周形状形状。磁力线分布方向不同会对成膜有很大关系。在E X B shift机理下工作的不光磁控溅射，多弧镀靶源，离子源，等离子源等都在次原理下工作。所不同的是电场方向，电压电流大小而已。
第四章 真空蒸发镀膜法
答：第一节真空蒸发镀膜原理一．定义：真空蒸发镀膜(蒸镀)是在真空条件下，加热蒸发物质使之气化并淀积在基片表面形成固体薄膜，是一种物理现象。广泛地应用在机械、电真空、无线电、光学、原子能、空间技术等领域。加热方式可以多种多样。二.真空蒸发镀膜原理❖图2.1为真空蒸发镀膜原理示意图。主要...
真空镀膜原理
答：离子镀膜（PVD镀膜）技术，其原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。..
真空电镀离子溅射原理是什么
答：一般金属镀膜大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀,基本的原理是在真空中利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面，电浆中的阳离子会加速冲向作为被溅镀材的负电极表面，这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上形成...
真空镀膜是什么
答：真空镀膜是一种技术或工艺。它通过在真空环境下进行薄膜材料沉积，以改变材料表面的物理特性和化学特性。这种技术广泛应用于制造各种产品，如光学器件、电子元件、装饰件等。下面详细介绍真空镀膜的概念和原理。真空镀膜主要是在高真空或超高真空的环境下，利用物理或化学手段将薄膜材料沉积在基材表面。这种技术...
