什么是“真空溅镀”？它与“真空蒸镀”有什么区别? 请问一下水镀和真空镀有什么区别呢？
1. **真空溅镀**：这是一种物理气相沉积（PVD）的方法。在溅镀过程中，目标材料（例如金属）被离子束轰击，使其表面的原子或分子被“溅”出，然后这些原子或分子在真空环境中飞向基材并在其表面沉积形成薄膜。溅镀过程可以在相对较低的温度下进行，而且可以得到具有较高密度和较好附着力的薄膜。
2. **真空蒸镀**：这也是一种物理气相沉积（PVD）的方法。在蒸镀过程中，目标材料被加热到高温，使其蒸发或亚蒸发，然后这些蒸发的原子或分子在真空环境中飞向基材并在其表面冷凝形成薄膜。蒸镀过程通常需要较高的温度，并且得到的薄膜可能比溅镀薄膜的密度和附着力稍低。
总的来说，两种技术各有其优点和适用范围。真空溅镀通常用于需要高质量、高性能薄膜的应用，例如微电子设备、硬盘、太阳能电池等。而真空蒸镀则更常用于一些需要大面积、成本较低的薄膜的应用，例如镜面反射膜、装饰膜等。
真空溅镀,是真空溅射镀膜的简称,是一种物理镀膜的方法.
真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
需要镀膜的被称为基片，镀的材料被成为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。
蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。
对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。
适合蒸镀，溅镀底部是镀不到的而且侧面很薄。镀完后金属面容易划伤，需要进行表涂！
你好，答案来自大连派立特真空电源，个人回答仅供参考。
真空溅射镀和真空蒸镀都是常见的薄膜沉积技术，它们在原理和应用上有所不同。
1. 原理上的区别：
真空溅射镀（Sputtering）：是利用带电粒子轰击固体目标表面（靶材），使得目标表面的原子或分子被释放并沉积在基底表面上的一种技术。在真空室中加入惰性气体（如氩气），通过电场或磁场加速惰性气体中的离子，使其轰击目标表面，从而使目标表面材料沉积到基底上。
真空蒸镀（Vacuum Deposition）：是通过加热到足够高的温度，使固体材料蒸发成气体或蒸汽，然后在真空室中使其沉积到基底表面上的一种技术。蒸发源通常是固体材料或粉末，它们被加热到足够的温度以使其转变为气态，然后在真空环境中沉积到基底上。
2. 实际工艺上的区别：
真空溅射镀通常需要使用离子束来轰击目标表面，因此设备复杂度较高，但可以实现对多种材料的溅射。此外，由于溅射过程是一个离子轰击表面的过程，因此产生的薄膜具有较好的结合力和均匀性。
真空蒸镀通常需要较高的温度来蒸发材料，但设备相对简单。蒸发的材料通常是纯净的，因此可以得到高纯度的薄膜。但蒸镀过程可能受到材料的挥发性和热分解性的限制，导致一些材料不适合蒸镀。
3. 适用范围：
真空溅射镀适用于制备多种材料的薄膜，例如金属、氧化物和化合物等。它在制备导电性薄膜、光学薄膜、防腐蚀薄膜等方面具有广泛的应用。
真空蒸镀适用于制备高纯度、均匀性好的薄膜，通常用于制备金属薄膜、金属氧化物薄膜、半导体材料薄膜等。
综上所述，两种技术各有优缺点，并且在不同的应用场景下有着各自的适用性。
什么是真空溅镀,它与真空蒸镀有什么区别?~
真空溅镀,是真空溅射镀膜的简称,是一种物理镀膜的方法.
真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
需要镀膜的被称为基片，镀的材料被成为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。
蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。
对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。
水电镀因工艺较简单，从设备到环境得要求均没有真空离子镀苛刻，从而被广泛应用。 一、水解镀和真空镀的简介： 1、水电镀: 一般适用于ABS料、ABS+PC料的产品。主要工艺是将需电镀的产品放入化学电镀液中进行电镀。根据客户的不同需要，可镀成不同的颜色，与高光银色、亚银色、灰银，枪色，金色，黑铬色，半光铬。因为电镀后的产品其导电性显著增强，对于某些需绝缘的部件办法有两种：其一，在需绝缘的部位涂上绝缘油，该部位在电镀时就不会被电镀到，从而达到绝缘效果！当然，涂了绝缘油的部位会变黑，就不适宜作为外观面了。其二，在需电镀的部位用特殊的胶纸贴住，保护起来，同样达到绝缘的效果。 2、真空离子镀，真空镀主要包括真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型，它们都是采用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜，通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层，同时具有速度快附着力好的突出优点，但是价格也较高，可以进行操作的金属类型较少，一般用来作较高档产品的功能性镀层。又称真空镀膜：一般适用范围较广，如ABS料、ABS+PC料、PC料的产品。同时因其工艺流程复杂、环境、设备要求高，单价比水电镀昂贵。现对其工艺流程作简要介绍：产品表面清洁、去静电--〉喷底漆--〉烘烤底漆--〉真空镀膜--〉喷面漆--〉烘烤面漆--〉包装。 真空电镀可分为一般真空电镀、UV真空电镀、真空电镀特殊； 工艺有蒸镀、溅镀、枪色等。 二、两种工艺区别：水电镀因工艺较简单，从设备到环境得要求均没有真空离子镀苛刻，从而被广泛应用。水电镀有个弱点，只能镀ABS料和ABS+PC料（此料镀的效果也不是很理想）。而ABS料耐温只有80℃,这使得它的应用范围被限制了。而真空电镀可达200℃左右，这对使用在高温的部件就可以进行电镀处理了。像风嘴、风嘴环使用PC料，这些部件均要求耐130℃的高温。另外，一般要求耐高温的部件，做真空电镀都要在最后喷一层UV油，这样使得产品表面即有光泽、有耐高温、同时又保证附着力。 三、两种工艺优缺点： 1、简单来说，如真空电镀不过UV油，其附着力很差，无法过百格TEST，而水电镀的明显好于真空电镀。因此，为保证真空电镀的附着力，均需后续进行特殊的喷涂处理,成本当然高些。 2、水电镀颜色较单调，一般只有亚银色、灰银，枪色，金色，黑铬色，半光铬等五花八门的七彩色就无能为力了。而，真空电镀可以解决七彩色的问题。
产品真空电镀后膜层质量太差怎么处理?
答：真空离子镀，是不采用溶液或电能液而制备薄膜的一种全新的干式镀膜方法。过去物体表面镀制薄膜作为物体表面改性的手段是采用湿式的电镀发或化学镀法。在电镀法中，被电解的离子镀到作为电解液中另一个电机的被镀件表面上而成膜，因此，其基体必须是良导体，度也难以控制。电镀颜色较单调，一般只有亮银和...
薄膜功能材料制备的器材是叫什么啊,就是先抽真空,充入氩气,电离出氩离...
答：你好！叫真空镀膜机。真空镀膜原理是：主要主要利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面, 靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以...
请问,陶瓷真空离子镀金要用什么材质隔离好呀?
答：陶瓷真空离子镀金要用海绵，或者布隔离好。
真空镀膜---掉膜
答：掉膜的原因有很多，如电解液配制比例不对，电流太小，胚体抛光质量不好等，最好逐项检查一下。
真空镀膜的产品能不能长期在水中浸泡
答：可以，对盐酸等其他腐蚀性溶剂浓度及时间有限制。
真空电镀师是干什么的
答：按我的理解应该是真空电镀工艺工程师吧。主要是负责标准文件的编写和维护，工艺参数的设定和不良原因分析、对策及相关验证的开展。一般来说真空电镀跟涂装结合比较紧密，所以最好有一定的涂装功底。本人对液体涂装、粉末涂装、真空蒸镀、真空溅镀都比较熟悉，担任过上述的工艺工程师及生产主管，如果有这方面...
镀膜制程设备注册商标属于哪一类?
答：选择注册（批次式真空溅镀设备，群组号：0915）类别的商标有1件，注册占比率达11.11%7.选择注册（薄膜蒸镀制程设备，群组号：0915）类别的商标有1件，注册占比率达11.11%8.选择注册（连续式真空溅镀设备，群组号：0915）类别的商标有1件，注册占比率达11.11%9.选择注册（真空蒸镀设备，...
什么是靶材?请赐教!另外靶材一般用途是什么?
答：靶材是指用于制备薄膜、涂层、表面改性等材料科学中的靶材料。它通常是一种高纯度的金属、合金或氧化物，通常是在真空中加热蒸发形成薄膜，可以通过磁控溅射、电子束蒸发、激光溅射等技术来制备薄膜。靶材的一般用途包括：1. 维护和改善材料的表面性能，如硬度、耐磨性、抗腐蚀性等；2. 用于制备新型材料或...
真空系统详细资料大全
答：是由真空泵、PLC程式控制系统、储气罐、真空管道、真空阀门、境外过滤总成等组成的成套真空系统。目前，该系统广泛套用于电子半导体业、光电背光模组、机械加工等行业。 该真空系统出厂时已经包括了抽速控制、进气过滤、主要运行数据显示、运行保护及远程控制接口等。只需要在现场进行简单的连线电源和管道,即...
真空镀膜蒸发溅射
答：一旦这些参数改变，那么你的实际溅镀速率也会随之改变。控制膜厚精度最重要的是稳定你的工艺参数，这样才能做到重复一致。事实上溅镀还是比较稳定的，只要蒸镀参数不变，一般溅镀速率不会有太大偏差。但是也要注意维护你的设备，让它保持正常稳定运转，能不能精确控制厚度关键还在于它的工作能力。
