不锈钢管真空电镀有什么优势？ 真空镀膜与电镀的优缺点是什么？
1. 真空电镀彩色不锈钢管相对于水电镀彩色不锈钢管可做出的颜色种类比较多，而且做出来的产品金属感强，亮度高。
2. 节约金属材料，环境污染小：由于真空涂层的附着力、致密度、硬度、耐腐蚀性能等相当优良，沉积的镀层可以远远小于常规湿法电镀镀层，达到节约的目的。而且所有镀层材料都是在真空环境下通过等离子体沉积在工件表面，没有溶液污染，所以对环境的危害相当小.。
3. 喜有沃的真空电镀都是高品质镀膜，高品质镀膜前期处理工艺更严格、镀膜过程更久，成品与样板相似度控制在90%左右，膜层厚度更厚，色泽更醇正，耐磨性和耐蚀性更好，每平方米内不多于两个0.2MM的白点，正常使用十年不变色，产品质量经得起正规质检机构的检验。
简析不锈钢管有哪些优势~
不锈钢的材料它是可以作为植入人体内的一种的材料。它相对来说是比较健康的，所以一般对于供水管来说，选用不锈钢管道它是具有更多的健康价值的。而通过一些浸泡水的实验，还有各项指标均符合国家现在应用水，并且不锈钢管道的内壁比较光滑，长期使用之后它不会产生一定的脏质，也不容易被细菌所污染，从而能够杜绝水的第2次污染。并且它的一些原材料都是采用符合国家要求的一些材料，相对来说性能比较稳定，并且强度比较高，预热膨胀性系数低。
而在不锈钢管道的表面，通常都有一层薄而致密的氧化膜，在所有水质当中，都具有比较良好的抗腐蚀性。其实把他们埋在地里面使用，也是会具有非常优良的一个抗腐蚀性。而经过专家的实验数据表明不锈钢水管的使用寿命可以长达到100年，并且在它们的寿命周期内几乎是不需要任何维护的，也避免了现在更换管道的一些费用，以及管道跟盘带来的一些麻烦，从而使综合使用成本有所降低。并且不锈钢还可以在零下270度到240度之间的低温下进行一个长期的安全工作，它不论是高温还是低温，都不会产生出有害的物质。
不锈钢管道本身的材料这个性能相当的稳定，然后不锈钢水管的抗拉强度也是非常大的，并且具有非常良好的延展性以及韧性。而这些不锈钢水管的一个高强度，它极大地降低了受到外来作用以及影响的一些漏水的可能性，从而降低了现在水的一个参透，使得水资源得到有效的保护和有效的利用。不锈钢管道可以经常广泛地应用于一些热水和冷水，还有净水，空气，以及其他石油化工等各方面。
不锈钢管道在热水管当中能有效的降低热能损耗。并且不锈钢材料它是100%可以再生的一个材料，它不会给环境带来一定的公害，当使用完成之后，它会回到工厂再进行一个再加工，从而产生一个新的产品。不锈钢管道目前是比较普遍使用的，目前相对于其他材质来说，在性能以及价格对比当中最好的是不锈钢水管，它的使用寿命一般是比较长的，可以说是用最小的成本，获得最大的收益。
真空镀膜的黏附性比较差，容易脱落
电镀的种类很多，你说的电镀是否是水电镀？
水电镀的膜厚比真空溅镀的厚，水电镀膜厚一般为15~20UM,真空电镀
的膜厚一般为0.5~2UM.水电镀的化学液不同会有不同的色彩。
真空电镀的靶材不同镀膜颜色不同，真空电镀的功率，真空等级不同会有颜色的变化。
溅镀
溅镀是利用氩离子轰击靶材，击出靶材原子变成气相并析镀于基材上。溅镀具有广泛应用的特性，几乎任何材料均可析镀上。
1) 溅镀的优点与限制
i) 优点
a) 无污染
b) 多用途
c) 附着性好
ii) 限制
a) 靶材的制造受限制
b) 靶材的受损，如陶瓷靶材，限制了使用能量的范围
c) 析镀速率低
2) 溅镀系统
i) 分类
a) 平面两极式：靶材为负极，基材为正极
b) 三极式：由阳极，阴极，外加电子源等三种电极所组成的系统。外加电子源产生电场加速正极离子化的气体分子。三极式系统不能使用于反应性溅镀，因为电子会影响反应气体与污染灯丝。
c) 磁控溅镀：利用磁场作用提高溅镀速率
d) 反应溅镀：将反应性气体导入真空腔中，并与金属原子产生化合物以镀着。
ii) 电流的分类
a) 直流电溅镀－应用于导电基材与镀层
b) 交流（或射频）电溅镀－应用于导电或非导电基材与镀层
3) 溅镀系统组合
i) 靶材
在溅镀时，经电浆中的正离子轰击，而析镀于基材的镀层材料；靶材通常是阴极。
ii) 溅镀的通量
溅镀时的通量即为溅镀原子的流量。流量原子的组成与经冷却，且未产生内扩散的靶材相同。同一靶材的所有材料之溅镀速率大致相同。(然而，蒸镀的蒸镀速率并不同)。
iii) 接地屏蔽
将离子局限于仅轰击与溅镀靶材；避免靶材夹治具被溅击。屏蔽与靶材之间的距离必须小于暗带（dark space）的厚度，因此，在高频（13.5MHz）或高压使用时，此距离较近。
iv) 挡板
设置在两个电极之间的活动板。通常溅击清洁靶材(靶材可能会在装载或操作时受到大气的污染)时移置于靶材与基材之间。
v) 靶材的冷却
当外加能量输入系统，会使靶材的温度提高，并损坏靶材与夹治具的结合，因此必须冷却。一般靶材都是用水冷却之。
vi) 基材温度的控制
利用电阻与光源等加热。一般而言，基材的表面温度会因辉光放电，而高于块材。
4) 绝缘体的溅镀
绝缘薄膜可利用射频溅镀或反应溅镀。若采用直流电溅镀，将迅速造成表面电荷堆积而无法溅镀。
i) 射频电溅镀（RF Sputtering）
使用频率为13.56 MHz的射频电源，使靶材与镀层表面能被离子与电子交替的轰击，以避免电荷的堆积。
ii) 射频溅镀的优点
a) 电子轰击离子化的效率增高，且操作压力比较低(<1mtorr)
b) 减少电弧（电弧的产生是由于粉尘或加热蒸发的气体）
iii) 反应溅镀（Reactive spuutering）
将反应性气体加入氩气中，如Ar + H2S，而与溅镀原子，如镉形成硫化镉。(例如，在氩气加氮气的环境下溅镀钛，会形成氮化钛)。其可为直流电或射频反应溅镀。
5) 磁控溅镀（Magnetron Sputtering）
"Magnetron"意指"磁化的电子"（Magnetical Electron）
i) 优点与缺点
磁控溅镀虽会增加溅镀速率，相对地，亦会加速靶材的损耗。由于基材与电浆间的距离较大，使基材较远离电浆可在低的工作温度进行溅镀。
ii) 操作方法
由垂直的电场和磁场的结合组成。由于电磁的交互作用，促进电子集中于靶材附近，以提升离子化效应如下图所示。
a) 磁场会使负极表面形成电子的聚集处，离子会因受限的电子源的静电效应而聚集。
b) 电子能有效聚集于靶材的表面，使离子化效率提高并提高溅镀速率。
钢材材质保证书上锌含量为Bal是什么意思
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