真空镀膜机的几种镀膜方法？
真空蒸镀
其原理是在真空条件下，用蒸发器加热膜料，使其气化或升华，蒸发粒子流直接射向基片，并在基片上沉积形成固态薄膜的技术。
溅射镀膜
溅射镀膜是真空条件下，在阴极接上高压电，激发辉光放电，带正电的氩离子撞击阴极靶材，使其射出膜料粒子，并沉积到基片上形成膜层。
离子镀膜
离子镀膜通常指在镀膜过程中会产生大量离子的镀膜方法。在膜的形成过程中，基片始终受到高能粒子的轰击，膜层强度和结合力非常强。
真空卷绕镀膜
真空卷绕镀膜是一种利用各种镀膜方法，在成卷的柔性薄膜表面上连续镀膜的技术，以实现柔性基体的一些特殊功能性、装饰性属性。
目前市场上常用的镀膜工艺包括真空蒸发、溅射、离子镀（空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀）。先进的涂装工艺在日常生活中经常使用。
~
用真空镀膜机镀铝的操作流程,详细点。小弟在这谢过了
答：1.打开空压机、工艺气体、电源空开 2。分子泵加速（扩散泵升温）3。抽真空 4。到本地真空后 5。氩离子轰击 6。主弧轰击 7。镀铝膜 8。降温 9。放气 10。出产品，OK 回答比较模糊，首先你的问题就比较模糊，哈哈
真空镀膜机怎么提高镀膜的效率呢
答：采用多级抽气系统。根据查询电子发烧友网显示，为了提高镀膜的效率可以采用多级抽气系统，将不同类型的泵组合使用，从而提高镀膜的效率。真空镀膜机是一种需要在较高真空度下进行的镀膜设备，主要包括真空电阻加热蒸发、电子枪加热蒸发、磁控溅射多种类型。
真空镀膜机里面工件可以直接上硅胶吗
答：可以。通过查询真空镀膜机操作使用守则信息显示，真空镀膜机里面工件可以直接上硅胶，可以有效的节省真空时间。真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类。
真空镀膜设备原理
答：磁控溅射原理 电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响，被束缚在*近靶面的等离子...
真空镀膜机镀金色用什么气体?
答：古德邦车标（goodbong）真空镀膜技术员为您解答：工艺技术：通过更换靶材和改变反应气体，能在不锈钢和不锈铁板、管及装饰五金件上进行如下色泽的装饰镀膜.1. TiN （仿金色）2. TiZrN （仿金色）3. TiC、TiNc （亮灰色~枪黑色）4. TiNC （玫瑰金~咖啡色）5. TiO （宝石兰色~彩虹色）6. ZrN （...
多弧真空镀膜机结构及技术,工艺特点,怎么镀出玫瑰金等颜色
答：镀出玫瑰金，难度很大，因为玫瑰金镀膜的工艺参数较变态。这个没有人会告诉你的，因为大家都是靠这个吃饭的，道理拟懂的。
真空度对真空镀膜的影响?
答：各种镀膜技术都需要有一个蒸发源或靶子，以便把蒸发制膜的材料转化成气体。由于源或靶的不断改进，大大扩大了制膜材料的选用范围，无论是金属、金属合金、金属间化合物、陶瓷或有机物质，都可以蒸镀各种金属膜和介质膜，而且还可以同时蒸镀不同材料而得到多层膜。以真空技术为基础，利用物理或化学方法，...
溅镀工艺可以分为哪几种不同的形式?
答：溅镀,是真空溅射镀膜的简称,是一种物理镀膜的方法.真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被称为基片，镀的材料被成为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。蒸发...
什么是PVD抛光镀膜技术
答：PVD抛光镀膜技术（物理气相沉积）是相对于CVD（化学气相沉积）来说的。它是一种蒸发真空镀膜技术，由蒸发、运输、反应、沉积四个物理反应完成材料镀膜的过程，可以说是一种替代电镀的过程。PVD抛光镀膜技术（物理气相沉积）承袭了化学气相沉积提高表面性能的优点,并克服了化学气相沉积高温易使材料变形等缺点。
真空镀膜上两根铝片时预熔时间和预熔保持时间应该是多少合适?
答：蒸发系统由真空钟罩，蒸发电极（共有二对），活动挡板，蒸发源，底盘等组成。蒸发源安装在电极上。为了改善薄膜厚度的不均匀性，一般镀膜机的低压电极往往安装在底盘的一侧，并使要镀的基片随工作架旋转。加热电流由调压器输出调整，蒸发电压与电流的大小可由面板上电流表和电压表读出。
